トリプル四重極 ICP-MS (ICP-QQQ)

トリプル四重極 ICP-MS (ICP-QQQ)は、一般的なシングル四重極ICP-MSよりもさらに高選択・高感度分析が可能です。ウエハ表面金属汚染分析や、薄膜組成及び不純物分析などにご利用いただけます。

誘導結合プラズマ質量分析（ICP-MS）

誘導結合プラズマ質量分析（ICP-MS）/全反射蛍光X線分析（TXRF) ：汚染分布からトータル汚染量評価まで、ニーズに合わせて最適手法をご提案いたします。 ウェハ全面、一部分、端部等、希望の測定範囲をご相談下さい。

誘導結合プラズマ質量分析（ICP-MS）:ウエハ表面に存在する汚染はデバイス特性を劣化させ、デバイスの製造歩留まりに大きな影響を与えます。ここでは誘導結合プラズマ質量分析(ICP-MS)によるシリコンウエハ表面上の金属汚染評価事例についてご紹介します。

回収が難しいとされる金（Au）、銀（Ag）、銅（Cu）やパラジウム（Pd）、白金（Pt）、ロジウム（Rh）、イリジウム（Ir）、ルテニウム（Ru）などの貴金属元素を、高い回収率で回収する技術をご紹介します。

親水性基板表面上の極微量の汚染も高精度で分析が可能なウエハ表面上の金属汚染評価の事例をご紹介します。

クリーンルームで使用する手袋について、シリコンウエハへ汚染を転写させて、気相分解法(VPD)-誘導結合プラズマ質量分析(ICP-MS)にて、評価した事例を紹介します。

微量の金属やイオン成分の溶出は、歩留まりの低下や腐食などの不具合を起こす原因となります。このような部材や製品の高感度分析を、短納期で実施します。ここでは実際の試験事例を２件ご紹介します。

無機元素分析の前処理法として汎用的に用いられているマイクロ波分解（マイクロウェーブ分解）についてご紹介します。