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EUV-Spiegel / weicher Röntgenspiegel

Wir bieten mehrschichtige Spiegel und einschichtige Spiegel für EUV.

Besonderheit

Bild
Mo/Si-Mehrschichtspiegel

Wir bieten EUV-Spiegel, die EUV-Licht mit einer Photonenenergie von 10 eV - 1 keV (Wellenlänge 120 nm - 1,2 nm) mit hoher Effizienz reflektieren. Dieser Energiebandspiegel, auch weiches Röntgen- oder XUV-Licht genannt, wird in einer Vielzahl von Bereichen eingesetzt, wie z. und Beobachtung von weichem Röntgenplasma
Mehrschichtige Filmspiegel werden hauptsächlich für direkten Einfall verwendet, und einschichtige Filmspiegel werden hauptsächlich für schrägen Einfall verwendet.

Gestaltungsbeispiel

Graph
Mo/Si多層膜ミラー、入射角0度
Graph
Ru単層膜ミラー、入射角80度

Typische Spezifikationen

Die Substratform und -beschichtung gestalten wir nach Ihren Wünschen.

Typische Spezifikationen
Maximale Größe Durchmesser 3 mm - 450 mm
Spiegelform Plan, konkav, zylindrisch, parabolisch, kugelförmig, toroidal
mehrschichtiges Material Ru/B4C, Mo/Si, Zr/AlSi, SiC/Mg, W/B4C
Einlagiges Material Ru, B4C, C, Ni, Au

Designbeispiel für EUV-Mehrschichtspiegel

Dies ist ein Designbeispiel eines Mehrschichtspiegels für 20 eV – 150 eV (Wellenlänge 60 nm – 8 nm).

Ru/B4C多層膜ミラー
(150 eV - 100 eV)

150 eV用

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 33%, バンド幅: 1.9 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 31%, バンド幅: 3.1 eV

120 eV用

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 40%, バンド幅: 2.2 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 40%, バンド幅: 4.5 eV

100 eV用

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 41%, バンド幅: 3.3 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 41%, バンド幅: 6.6 eV

Mo/Si多層膜ミラー(95 eV - 70 eV)

90 eV用

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 68%, バンド幅: 3.5 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 67%, バンド幅: 6.1 eV

80 eV用

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 61%, バンド幅: 3.1 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 60%, バンド幅: 7.7 eV

Zr/AlSi多層膜ミラー
(70 eV - 50 eV)

70 eV用

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 59%, バンド幅: 2.8 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 59%, バンド幅: 4.4 eV

60 eV用

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 49%, バンド幅: 3.3 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 49%, バンド幅: 6.3 eV

50 eV用

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 32%, バンド幅: 4.9 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 32%, バンド幅: 9.6 eV

SiC/Mg多層膜ミラー
(45 eV - 20 eV)

40 eV用

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 48%, バンド幅: 2.5 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 48%, バンド幅: 3.0 eV

30 eV用

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 44%, バンド幅: 3.1 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 45%, バンド幅: 3.8 eV

20 eV用

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 41%, バンド幅: 3.1 eV
Grafik AOI=45 Grad.
Reflexionsgrad: 46 %

EUV多層膜ミラー 標準品仕様

Standardmodell EUVML-(a)-(b)-(c)-(d)-(e)(f)
(a) Mehrschichtiges Folienmaterial Ru/B4C, Mo/Si, Zr/AlSi, SiC/Mg
(b) Reflektierender Typ H: Hohes Reflexionsvermögen, N: Schmalband, B: Breitband
(c) Einfallswinkel 0 Grad - 60 Grad
(d) zentrale Energie 20 eV - 150 eV (60 nm - 8 nm)
(e) Größe des Boards 1025: 1 Zoll Durchmesser x 0,25 Zoll Dicke
0525: 0,5" Durchmesser x 0,25" Dicke
(f) Art der Tafel F: flach, C: konkav (Krümmungsradius 100 mm - 3000 mm)

Designbeispiel für einen EUV-Einschichtfilmspiegel

10 eV - 1 keV(波長120 nm - 1.2 nm)用単層膜ミラーの設計例です。

Auミラー

Diagramm AOI = 75 Grad.
Grafik AOI=85 Grad.

Niミラー

Diagramm AOI = 75 Grad.
Grafik AOI=85 Grad.

Ruミラー

Diagramm AOI = 75 Grad.
Grafik AOI=85 Grad.

SiCミラー

Diagramm AOI = 75 Grad.
Grafik AOI=85 Grad.

B4Cミラー

Diagramm AOI = 75 Grad.
Grafik AOI=85 Grad.

EUV単層膜ミラー 標準品仕様

Standardmodell EUVSM-(a)-(b)(c)
(a) Beschichtungsmaterial Au, Ni, Ru, B4C, SiC
(b) Substratgröße 1025: 1 Zoll Durchmesser x 0,25 Zoll Dicke
0525: 0,5" Durchmesser x 0,25" Dicke
(c) Substrattyp F: flach, C: konkav (Krümmungsradius 100 mm - 3000 mm)

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