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EUV-Spiegel / weicher Röntgenspiegel

Wir bieten mehrschichtige Spiegel und einschichtige Spiegel für EUV.

Besonderheit

Bild
Mo/Si-Mehrschichtspiegel

Wir bieten EUV-Spiegel, die EUV-Licht mit einer Photonenenergie von 10 eV - 1 keV (Wellenlänge 120 nm - 1,2 nm) mit hoher Effizienz reflektieren. Dieser Energiebandspiegel, auch weiches Röntgen- oder XUV-Licht genannt, wird in einer Vielzahl von Bereichen eingesetzt, wie z. und Beobachtung von weichem Röntgenplasma
Mehrschichtige Filmspiegel werden hauptsächlich für direkten Einfall verwendet, und einschichtige Filmspiegel werden hauptsächlich für schrägen Einfall verwendet.

Gestaltungsbeispiel

Graph
Mo/Si-Mehrschichtspiegel, Einfallswinkel 0 Grad
Graph
Ru-Einschichtspiegel, Einfallswinkel 80 Grad

Typische Spezifikationen

Die Substratform und -beschichtung gestalten wir nach Ihren Wünschen.

Typische Spezifikationen
Maximale Größe Durchmesser 3 mm - 450 mm
Spiegelform Plan, konkav, zylindrisch, parabolisch, kugelförmig, toroidal
mehrschichtiges Material Ru/B4C, Mo/Si, Zr/AlSi, SiC/Mg, W/B4C
Einlagiges Material Ru, B4C, C, Ni, Au

Designbeispiel für EUV-Mehrschichtspiegel

Dies ist ein Designbeispiel eines Mehrschichtspiegels für 20 eV – 150 eV (Wellenlänge 60 nm – 8 nm).

Ru/B 4C-Mehrschichtspiegel
(150 eV - 100 eV)

Für 150 eV

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 33%, バンド幅: 1.9 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 31%, バンド幅: 3.1 eV

Für 120 eV

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 40%, バンド幅: 2.2 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 40%, バンド幅: 4.5 eV

Für 100 eV

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 41%, バンド幅: 3.3 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 41%, バンド幅: 6.6 eV

Mo/Si-Mehrschichtspiegel (95 eV - 70 eV)

Für 90 eV

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 68%, バンド幅: 3.5 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 67%, バンド幅: 6.1 eV

Für 80 eV

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 61%, バンド幅: 3.1 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 60%, バンド幅: 7.7 eV

Zr/AlSi-Mehrschichtspiegel
(70 eV - 50 eV)

Für 70 eV

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 59%, バンド幅: 2.8 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 59%, バンド幅: 4.4 eV

Für 60 eV

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 49%, バンド幅: 3.3 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 49%, バンド幅: 6.3 eV

Für 50 eV

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 32%, バンド幅: 4.9 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 32%, バンド幅: 9.6 eV

SiC/Mg-Mehrschichtspiegel
(45 eV - 20 eV)

Für 40 eV

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 48%, バンド幅: 2.5 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 48%, バンド幅: 3.0 eV

Für 30 eV

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 44%, バンド幅: 3.1 eV
Grafik AOI=45 Grad.
反射率: 45%, バンド幅: 3.8 eV

Für 20 eV

Grafik AOI=0 Grad.
反射率: 41%, バンド幅: 3.1 eV
Grafik AOI=45 Grad.
Reflexionsgrad: 46 %

EUV-Mehrschichtspiegel – Standardspezifikationen

Standardmodell EUVML-(a)-(b)-(c)-(d)-(e)(f)
(a) Mehrschichtiges Folienmaterial Ru/B4C, Mo/Si, Zr/AlSi, SiC/Mg
(b) Reflektierender Typ H: Hohes Reflexionsvermögen, N: Schmalband, B: Breitband
(c) Einfallswinkel 0 Grad - 60 Grad
(d) zentrale Energie 20 eV - 150 eV (60 nm - 8 nm)
(e) Größe des Boards 1025: 1 Zoll Durchmesser x 0,25 Zoll Dicke
0525: 0,5" Durchmesser x 0,25" Dicke
(f) Art der Tafel F: flach, C: konkav (Krümmungsradius 100 mm - 3000 mm)

Designbeispiel für einen EUV-Einschichtfilmspiegel

Dies ist ein Beispielentwurf für einen einschichtigen Spiegel für den Bereich von 10 eV bis 1 keV (Wellenlänge 120 nm bis 1,2 nm).

Au Mirror

Diagramm AOI = 75 Grad.
Grafik AOI=85 Grad.

Ni-Spiegel

Diagramm AOI = 75 Grad.
Grafik AOI=85 Grad.

Ru Mirror

Diagramm AOI = 75 Grad.
Grafik AOI=85 Grad.

SiC-Spiegel

Diagramm AOI = 75 Grad.
Grafik AOI=85 Grad.

B 4 C Spiegel

Diagramm AOI = 75 Grad.
Grafik AOI=85 Grad.

EUV-Einzelschichtspiegel – Standardspezifikationen

Standardmodell EUVSM-(a)-(b)(c)
(a) Beschichtungsmaterial Au, Ni, Ru, B4C, SiC
(b) Substratgröße 1025: 1 Zoll Durchmesser x 0,25 Zoll Dicke
0525: 0,5" Durchmesser x 0,25" Dicke
(c) Substrattyp F: flach, C: konkav (Krümmungsradius 100 mm - 3000 mm)

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