EUV/X射线光学系统设计与制作
设计制作用于极端紫外线 (EUV) 和X射线的聚光和成像的光学系统
特征
用于对波长比可见光短的EUV光和X射线进行聚焦和成像的光学系统取决于光源的类型和要观察的物体，使用的是A型望远镜。
除了提供这些各种光学系统外，我们还提供用于光谱、光束形成和光束分裂的光学系统和元件、评估元件以及各种光学元件的调整机构。我们还提供在日本使用的 HP Spectroscopy 的EUV 和软 X 射线光谱仪。
生产实例
是组合了直入射的凹面反射镜和凸面反射镜的聚光或成像光学系统。我们将根据您使用的波长为每个镜子提供多层膜涂层或单层膜涂层。
是由两个斜入射的凹面镜组合而成的聚光光学系统。在各镜子上涂上符合使用波长的全反射用单层膜。
典型光学元件
我们将根据您的要求提供光学元件、调整机构、真空容器等。
请咨询
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