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Röntgendiagramm

Wir bieten Auflösungstestcharts für Röntgenmikroskope an.

Besonderheit

Röntgenmikroskopische Aufnahme
Röntgendiagramm REM-Bild

Die Röntgenmikroskopie wird als hochauflösendes bildgebendes Verfahren in verschiedenen Bereichen eingesetzt, für die Auswertung sind jedoch Diagramme mit ausreichend hoher Auflösung erforderlich. Die Röntgendiagramme von NTT-AT mit hochauflösenden Tantal (Ta)-Absorbermustern auf SiC- und SiN-Membranen werden zur Auflösungsbewertung in Synchrotronstrahlungsanlagen auf der ganzen Welt verwendet.
Abhängig von Ihrer Anwendung können Sie zwischen drei Typen wählen: Standardtyp, Dickschichttyp mit hoher Auflösung und Typ mit ultrahoher Auflösung. Wir bieten auch Reflexionskarten für den EUV-Bereich an.

Standardproduktspezifikationen

Artikel Standard-Typ
XRESO-100
Hochauflösender Dickschichttyp
XRESO-50HC
Superhochauflösender Typ
XRESO-20
Muster Absorber Ta, 1,0 µm Dicke Ta, 500 nm Dicke Ta, 100 nm dick
Mindestmaß 100 nm 50 nm 20 nm (radiales Muster)
Musterbereich 250 µm×350 µm
300 µm×300 µm
Membran Ru (20 nm)/SiN (2 µm) Ru (20 nm)/SiC (200 nm)/SiN (50 nm)
Substrat Material/äußere Form Si, 10 mm×10 mm
Dicke 1 mm 0.625 mm

Außendiagramm (hochauflösender Typ)
(a)X線チャート部 (b)Ru/SiNメンブレン (c)Si基板 (d)Ta吸収体
*Die aufgeführten Spezifikationen können aufgrund von Produktverbesserungen ohne vorherige Ankündigung geändert werden. bitte beachte, dass.

代表パタンSEM像

Bild 1
radiales Muster
(XRSO-20)
Bild 2
100 nm Lochmuster
(XRESO-20)
Bild 3
50 nm Linien- und Raummuster
(XRSO-20)
Bild 4
50 nm Linien- und Raummuster
(XRESO-50HC)

Musterlayout

Musterlayoutbild 1
超高解像タイプ XRESO-20
①放射状パタン, ②100 nmホールパタン, ③50 nmライン&スペースパタン
Musterlayoutbild 2
厚膜高解像タイプ XRESO-50HC
①放射状パタン, ②50 nmライン&スペースパタン
Musterlayoutbild 3
Standardtyp XRESO-100

撮像例

Bild
Inspektionsausrüstung: Token TUX-5000F, Karte: XRESO-50HC
(Mit freundlicher Genehmigung von Token Co., Ltd.)

カスタムチャート製造例

Bild
Reflektierendes Diagramm für EUV
Mehrschichtfolie: Mo/Si für Wellenlänge 13,5 nm, Absorber: Ta

Bitte Anfragen auf Englisch.

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