Röntgendiagramm
Wir bieten Auflösungstestcharts für Röntgenmikroskope an.
Besonderheit
Die Röntgenmikroskopie wird als hochauflösendes bildgebendes Verfahren in verschiedenen Bereichen eingesetzt, für die Auswertung sind jedoch Diagramme mit ausreichend hoher Auflösung erforderlich. Die Röntgendiagramme von NTT-AT mit hochauflösenden Tantal (Ta)-Absorbermustern auf SiC- und SiN-Membranen werden zur Auflösungsbewertung in Synchrotronstrahlungsanlagen auf der ganzen Welt verwendet.
Abhängig von Ihrer Anwendung können Sie zwischen drei Typen wählen: Standardtyp, Dickschichttyp mit hoher Auflösung und Typ mit ultrahoher Auflösung. Wir bieten auch Reflexionskarten für den EUV-Bereich an.
Standardproduktspezifikationen
| Artikel | Standard-Typ XRESO-100 |
Hochauflösender Dickschichttyp XRESO-50HC |
Superhochauflösender Typ XRESO-20 |
|
|---|---|---|---|---|
| Muster | Absorber | Ta, 1,0 µm Dicke | Ta, 500 nm Dicke | Ta, 100 nm dick |
| Mindestmaß | 100 nm | 50 nm | 20 nm (radiales Muster) | |
| Musterbereich | 250 µm×350 µm |
300 µm×300 µm
|
||
| Membran | Ru (20 nm)/SiN (2 µm) | Ru (20 nm)/SiC (200 nm)/SiN (50 nm) | ||
| Substrat | Material/äußere Form | Si, 10 mm×10 mm | ||
| Dicke | 0.625 mm | |||
*Die aufgeführten Spezifikationen können aufgrund von Produktverbesserungen ohne vorherige Ankündigung geändert werden. bitte beachte, dass.
Repräsentatives Muster SEM-Bild
(XRSO-20)
(XRESO-20)
(XRSO-20)
(XRESO-50HC)
Musterlayout
① Radiales Muster, ② 100-nm-Lochmuster, ③ 50-nm-Linien- und Zwischenraummuster
① Radiales Muster, ② 50 nm Linien- und Zwischenraummuster
Bildbeispiel
(Mit freundlicher Genehmigung von Token Co., Ltd.)
Beispiel für die Herstellung kundenspezifischer Diagramme
Mehrschichtfolie: Mo/Si für Wellenlänge 13,5 nm, Absorber: Ta
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