収束電子線回折(CBED)法によるGaNの極性判定 お問い合わせ CBED法: 円錐状に収束した電子線を試料に入射するとディスク状に広がった回折パターンが得られます。回折ディスク内部の電子強度分布は色々な方向から入射した電子線の回折強度(ロッキングカーブ)に対応しており、その模様などから結晶の構造や対称性などの情報を引き出す手法です。 極性: ウルツ鉱構造を有するGaNはと 方向が区別されます。 方向をGa極性 、方向をN極性と呼びます。極性は、結晶の成長メカニズムを理解する上で非常に重要と言われています。 MOVPE法により成長したGaNの極性判定を行った例 MOVPE法でサファイア上に成長したGaNは、通常Ga極性を有すると言われています。最近非常に高品質で表面が平坦なGaNの断面TEM像を観察しました (図中にCBEDパターン測定個所2点を示します)。 観察したCBEDパターンをシミュレーションと比較し、本試料がN極性であると判定されました。 本実験から、N極性で極めて高品質なGaNを成長できることを初めて明らかにしました。 (この極性判定結果はCAICISSの結果とも一致しています) GaNの断面TEM像 測定点A、BでのCBEDパターンと計算パターンの比較 T.Matsuoka, H.Takahata, T.Mitate, S.Mizuno, and T.Makimoto: "Polarity of GaN Grown on Several Substrates by MOVPE", 8th Wide-Bandgap III-Nitride Workshop, MPos-10, (Richmond, U.S.A., 2003), to be submitted in J. Cryst. Growth. 材料分析サービス 形態観察 透過電子顕微鏡 TEM 透過型電子顕微鏡 TEM 単結晶基板表面の研磨ダメージによる結晶欠陥観察 グラフェン(graphene)の断面TEM観察 次世代半導体材料 酸化ガリウムの原子分解能STEM観察 EDS-STEM, EELS-STEMによる原子スケールでの元素マッピング 高温環境下でのTEM/STEM観察 金属材料のTEM観察 金属多層膜の断面構造観察 Si表面の単原子ステップの断面構造観察 カーボンナノチューブのHRTEM観察 電子回折による結晶性評価 ウィークビーム法によるGaNエピ膜の転位観察 Micro-Sampling技術 収束電子線回折(CBED)法によるGaNの極性判定 走査電子顕微鏡 SEM 走査電子顕微鏡 SEM EDS広域マップ測定 大型試料のSEM観察・分析 金属材料のEBSD分析 硬軟複合材料の界面観察技術 Co-Cr合金薄膜の微細偏析構造 n-InGaAsP/InP 周期構造 LEDの断面SEM観察とEDS元素マッピング FIB-SEM FIB-SEMによる3D再構築 AFM 原子間力顕微鏡 表面分析 化学分析 試験特性評価