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Harz mit hohem Brechungsindex

Anfragen auf Englisch
Wir bieten UV-härtbare Harze mit hohem Brechungsindex und hervorragender Transparenz im sichtbaren Lichtbereich.
Basierend auf der fortschrittlichen Technologie, die wir mit optischen Klebstoffen entwickelt haben, können wir Produkte an die Bedürfnisse unserer Kunden anpassen.
[Datum] 12. (So.) – 15. (Mi.) Oktober 2025 
Wir werden auf der 24. Internationalen Konferenz zu Nanoimprint und Nanodrucktechnologie ausstellen.
[Datum] 24. (Di.) – 27. (Fr.) Juni 2025 
Wir werden auf der Laser World of Photonics 2025 ausstellen.

Beispiel für eine individuelle Anpassung

Beispiel für einen Anpassungsartikel

Brechungsindexbereich 1,6-1,9 oder höher
Bewerbungsmethode Spin-Coat, Inkjet, Bar-Coat, Dispensen usw.
Schichtdicke 200 nm oder mehr für dünne Filme, 100 μm oder weniger für dicke Filme
Produkteigenschaften Hoher Brechungsindex, hohe Transparenz, geringe Trübung, Lichtbeständigkeit, Hitzebeständigkeit, gute Nanobedruckbarkeit, gute Haftung, lösungsmittelfrei

Beispiel für optische Eigenschaften

Optical transmittance #18247
Lichtdurchlässigkeit von #18247
Probendicke: 50 μm
Werte beinhalten Rückflussdämpfung
refractive index wavelength dependence
Brechungsindex von #18247

Anwendungsbeispiel

・Optischer Wellenleiter für XR-Geräte
・Harzlinse
・Silizium-Photonik-Kommunikationsgeräte
・Nanoimprint-Harz
・Optische Klebstoffe
・Optische Beschichtungsmittel usw.

Was ist Nanoimprint?

Hierbei handelt es sich um eine Verarbeitungstechnologie, bei der eine Form mit einem nanoskaligen unebenen Muster gegen ein mit Harz beschichtetes Substrat gepresst wird und das unebene Muster durch Erhitzen oder Photohärten auf das Harz übertragen wird.

Es erregt Aufmerksamkeit als Massenproduktionstechnologie der nächsten Generation, da es im Vergleich zu herkömmlicher Verarbeitungstechnologie im Nanomaßstab einfach und kostengünstig verarbeitet werden kann.

nano-imprint lithography

Diagramm des Nanoimprint-Prozesses

Beispiel für die Mustererstellung mittels Nanoimprint

Line and space_width45
Linie und Raum
Breite: 45 nm, Tiefe: 100 nm
Pillar pattern
Säulenmuster
Breite: 0,5–5 μm, Tiefe: 350 nm

Über den Kauf

Für Käufe oder Fragen kontaktieren Sie uns bitte über Anfragen auf Englisch.
Außerhalb Japans ist der Verkauf in einigen Ländern aufgrund gesetzlicher Beschränkungen hinsichtlich chemischer Substanzen möglicherweise nicht gestattet.
Für Informationen zu Vertriebshändlern im Ausland klicken Sie bitte hier.
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