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Harz mit hohem Brechungsindex

Wir bieten UV-härtbare Harze mit hohem Brechungsindex und hervorragender Transparenz im sichtbaren Lichtbereich.
Basierend auf der fortschrittlichen Technologie, die wir mit optischen Klebstoffen entwickelt haben, können wir Produkte an die Bedürfnisse unserer Kunden anpassen.


NH700-Serie

Dieses optische Material zeichnet sich durch einen hohen Brechungsindex, hohe Transparenz und Beständigkeit gegenüber Umwelteinflüssen aus.
Dieser lösungsmittelhaltige Typ eignet sich zur Herstellung dünner Schichten.

Hauptspezifikationen der NH700-Serie

Brechungsindex 1.8, 1.9
Schichtdicke 200 nm bis 1 μm (typischer Wert: 300 nm)
Übertragung >90%
Dunst <0.1%
Aushärtungsmethode UV-Härtung
*Der Wert beinhaltet den Reflexionsverlust

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Bitte beachten Sie, dass wir Sie auch dann per E-Mail kontaktieren werden, wenn Sie einen Rückruf durch einen unserer Mitarbeiter bezüglich Ihrer Materialanfrage wünschen.
Wir können Anfragen von Mitbewerbern oder einzelnen Kunden möglicherweise nicht erfüllen.


Anpassungsbeispiel

Beispiele für Anpassungselemente

Brechungsindexbereich 1,6-1,9 oder höher
Bewerbungsmethode Spin-Coat, Inkjet, Bar-Coat, Dispensen usw.
Schichtdicke 200 nm oder mehr für dünne Filme, 100 μm oder weniger für dicke Filme
Produkteigenschaften Hoher Brechungsindex, hohe Transparenz, geringe Trübung, Lichtbeständigkeit, Hitzebeständigkeit, gute Nanobedruckbarkeit, gute Haftung

Anwendungsbeispiel

  • Optischer Wellenleiter für XR-Geräte
  • Harzlinse
  • Siliziumphotonische Kommunikationsgeräte
  • Harz für Nanoimprint
  • Optische Klebstoffe
  • Optische Beschichtungsmittel usw.

Was ist Nanoimprint

Hierbei handelt es sich um eine Verarbeitungstechnologie, bei der eine Form mit einem nanoskaligen unebenen Muster gegen ein mit Harz beschichtetes Substrat gepresst wird und das unebene Muster durch Erhitzen oder Photohärten auf das Harz übertragen wird.

Es erregt Aufmerksamkeit als Massenproduktionstechnologie der nächsten Generation, da es im Vergleich zu herkömmlicher Verarbeitungstechnologie im Nanomaßstab einfach und kostengünstig verarbeitet werden kann.

nano-imprint lithography
Diagramm des Nanoimprint-Prozesses

Beispiele für die Musterherstellung mittels Nanoimprint-Lithographie

Säulenmuster
Breite: 0,5–5 μm, Tiefe: 350 nm

Für Kaufanfragen oder sonstige Anliegen kontaktieren Sie uns bitte über Anfragen auf Englisch.
Außerhalb Japans kann der Verkauf in einigen Ländern aufgrund von Gesetzen und Vorschriften bezüglich chemischer Substanzen verboten sein.
Informationen zu ausländischen Vertriebspartnern finden Sie hier.
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