EUV/X射線光學係統設計與制作

特征

用於對波長比可見光短的EUV光和X射線進行聚焦和成像的光學系統取決於光源的類型和要觀察的物體，使用的是A型望遠鏡。
除了提供這些各種光學系統外，我們還提供用於光譜、光束形成和光束分裂的光學系統和元件、評估元件以及各種光學元件的調整機構。我們也提供在日本使用的 HP Spectroscopy 的EUV 和軟 X 射線光譜儀。

生產實例

是組合了直入射的凹面反射鏡和凸面反射鏡的聚光或成像光學係統。我們將根據您使用的波長為每個鏡子提供多層膜塗層或單層膜塗層。

是由兩個斜入射的凹面鏡組合而成的聚光光學係統。在各鏡子上塗上符合使用波長的全反射用單層膜。

代表的な光学素子

我們將根據您的要求提供光學元件、調整機構、真空容器等。

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