EUV鏡/軟X線鏡
我們提供EUV用的多層膜鏡和單層膜鏡。
特征
我們提供可高效反射光子能量為 10 eV - 1 keV（波長 120 nm - 1.2 nm）的 EUV 光的 EUV 反射鏡。這種能帶反射鏡，也稱為軟 X 射線或 XUV 光，廣泛用於 EUV 光刻等工業應用、使用高次諧波的超高速物理和化學研究、天體物理學應用、和軟X射線等離子體觀測。它是
多層鏡主要用於直入射，單層鏡用於斜入射。
代表性規格
我們會根據您的要求進行基板形狀設計和塗層設計。
| 代表性規格 | |
|---|---|
| 最大大小 | 直徑3 mm -450 mm |
| 鏡像形狀 | 平面、凹面、圓柱面、拋物面、旋轉橢圓面、環形面 |
| 多層膜材料 | Ru/B4C、Mo/Si、Zr/AlSi、SiC/Mg、W/B4C |
| 單層薄膜材料 | Ru、B4C、C、Ni、Au |
資料下載
EUV多層膜鏡設計實例
20 eV -150 eV (波長60 nm -8 nm) 用多層膜鏡的設計實例。
Ru/B 4 C多層膜鏡像
(150 eV -100 eV)
用於150 eV
用於120 eV
用於100 eV
Mo/Si多層膜鏡像 (95 eV -70 eV)
用於90 eV
用於80 eV
Zr/AlSi多層膜鏡像
(70 eV -50 eV)
用於70 eV
用於60 eV
用於50 eV
SiC/Mg多層膜鏡像
(45 eV -20 eV)
用於40 eV
用於30 eV
用於20 eV
EUV多層膜反射鏡標準品規格
| 標準型號 | EUVML-(a)-(b)-(c)-(d)-(e)(f) |
|---|---|
| (a)多層膜材料 | Ru/B4C, Mo/Si, Zr/AlSi, SiC/Mg |
| (b)反射類型 | H:高反射率，N:窄帶，B:寬帶 |
| (c)入射角 | 0度-60度 |
| (d)中心能量 | 20 eV - 150 eV (60 nm - 8 nm) |
| (e)電路板尺寸 | 1025：1 英寸直徑 x 0.25 英寸厚 0525：0.5" 直徑 x 0.25" 厚 |
| (f)電路板類型 | F:平面，C:凹面 (曲率半徑100 mm -3000 mm) |
EUV單層膜鏡設計實例
10 eV -1 keV (波長120 nm -1.2 nm) 單層膜鏡的設計示例。
Au鏡像
鎳鏡像
Ru鏡像
SiC鏡像
B 4 C鏡像
EUV單層膜鏡標準品規格
| 標準型號 | EUVSM-(a)-(b)(c) |
|---|---|
| (a)塗層材料 | Au, Ni, Ru, B4C, SiC |
| (b)基板尺寸 | 1025：1 英寸直徑 x 0.25 英寸厚 0525：0.5" 直徑 x 0.25" 厚 |
| (c)基板類型 | F:平面，C:凹面 (曲率半徑100 mm -3000 mm) |
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