特征

菲涅耳区域平板SEM图像
在X射线区域,材料的折射率约等于1,与可见光不同,无法用凸透镜将光聚焦,因此使用菲涅尔波带片(FZP)作为聚焦元素。
NTT-AT的FZP采用垂直度高的Ta图案作为吸收材料,使用耐X射线照射的SiC膜作为保持材料,广泛应用于同步加速器辐射设施。
NTT-AT的FZP采用垂直度高的Ta图案作为吸收材料,使用耐X射线照射的SiC膜作为保持材料,广泛应用于同步加速器辐射设施。
生产实例

极微细FZP:直径250μm, Ta膜厚200 nm,最外周区宽50 nm, SiC膜厚2.0μm


高长FZP:直径100μm, Ta膜厚2μm,最外周区宽200 nm, SiN膜厚2.0μm
代表性规格
根据您要求的能量、焦距、分辨率等进行设计。
代表性规格 | |
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最小最大区域宽度和纵横比 | 50 nm (长宽比4) ,200 nm (长宽比10) |
最大直径 | 2 mm |
薄膜材料 | SiC或SiN, 0.2μm -2μm |
吸收性材料 | Ta, 0.1 µm - 2.0 µm |
硅框轮廓尺寸 | 10毫米x 10毫米x 1毫米厚 |

(a)X射线FZP部 (b) SiC或SiN膜 (c) Si基板 (d) Ta吸收体
可选零件

中心光束停止器
吸收体:Au,30 µm 厚,膜:SiC
吸收体:Au,30 µm 厚,膜:SiC

针孔
材料:Pt,100 µm 厚,针孔直径:50 um
材料:Pt,100 µm 厚,针孔直径:50 um
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