エッチング
半導体プロセスサービス
フッ素系、その他ハロゲン系の各ガス種によるドライエッチング、硫酸系、塩酸系、
HF系エッチャントによるウエットエッチングを承ります。
仕様
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形成方式
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対応可能ガス/薬液
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対応可能材料
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| ドライエッチング | フッ素系、その他ハロゲン系 | 各種III-V族、Si、絶縁膜、石英等 |
| ウエットエッチング | 硫酸系、塩酸系、HF系 |
対応可能サイズ：Φ2"～Φ4"、不定形
特長
- エッチング後の評価も承ります。
深さ評価は「段差測定」、「断面SEM観察」、「AFM評価」
形状/エッチング面は、「断面SEM観察」、「表面SEM観察」により評価いたします。
- メタルのエッチングも承ります。
ドライエッチング例
