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研磨・劈開・ダイシング

半導体プロセスサービス

ウエハ裏面研磨、劈開、ダイシング等、プロセス後工程を承ります。

研磨

ウエハ表面(裏面)研磨・薄化の各種研磨を承ります。

対応可能基板
対応可能サイズ
GaAs、InP Φ2"、Φ3"、不定形

ダイシング

InP、GaAs、Si、石英、サファイア基板を中心に、精密ダイヤモンドブレードと精密加工装置を用いたダイシングサービスを承ります。

対応可能基板
対応可能サイズ
GaAs、InP、Si、石英、サファイア、GaN Φ2"、Φ3"、Φ6"、不定形
ダイシング例(Si基板)
ダイシング例(Si基板)

劈開

InP基板、GaAs基板に関しましては劈開によるデバイスのチップ化も承ります。スクライブ装置とブレーキング装置による自動劈開が可能です。