ナノインプリント法により形成された微細パターンのSEM観察

ナノインプリントの微細パターンの断面形状を評価した、SEM観察事例をご紹介します。
劈開断面と極薄金属コーティングの組み合わせにより、微細構造を鮮明に観察しました。

試料

弊社のナノインプリント用モールドにより転写した微細パターン

• 使用モールド：NIM-PHL45
• パターンサイズ：幅350nm、深さ350nm、duty比 1:1

観察結果

適用例

• 各種微細パターンの形状観察（光学部品、半導体パターンセラミックス、複合材料）
• 転写不良、側壁テーパーなどの確認

今回のSEM分析のポイント

本例では劈開による断面作製で、良好な観察結果を得る事が出来ました。また、表面導電処理に極薄金属コーティングを採用する事で、微細構造を埋もれさせずに高精細なSEM像を得る事ができました。
断面作製は、この他にも材料の性質や観察目的に合わせた断面作製手法（CP、FIB、切断・研磨等）を用意しております。