ウエハ汚染評価事例3-親水性基板の添加回収試験-

親水性基板表面上の微量金属汚染の分析事例です。
回収評価の難しかった親水性基板表面上の微量金属汚染も、弊社では高精度に分析が可能です。

プロセスでの汚染を精度良く管理することで、プロセスでの不具合の原因究明の解決、各種プロセスの改善にお役立てください。

課題

基板表面上の金属汚染を回収評価するには、基板表面が回収溶液をある程度弾く（疎水性である）ことが望ましいとされています。なぜなら、親水性基板の場合には、汚染を回収する溶液が基板表面に濡れてしまい、全量を回収することが難しく、精度の高い結果を得ることが容易ではないためです。

回収法の一例として、ピペットによる溶液の滴下、吸い上げ操作が挙げられます。しかしながら本法においては、細心の注意を払っても、冶具、雰囲気および作業者などから汚染が混入する可能性があるという課題があります。
(右図：ピペットによる回収の様子)

弊社では、全自動の回収装置を用いることでこれらの課題を解決し、極微量の汚染についても、精度良く測定することが可能です。
（左図：全自動回収装置による回収の様子）

1000Åの熱酸化膜付きシリコンウエハを試験に用いました。
基板表面上に既知量の元素を汚染させ、一般的な酸である硝酸（2％）と塩酸（2％）で汚染回収を3回実施しました。
添加（汚染）量に対する各回の回収率を以下に示します。
多くの元素において、1回目の回収で90％以上が回収されています。

添加量に対する3回目の回収までのトータル回収率を以下に示します。
汚染を受けやすい元素（Na、K、Ca、Feなど）も汚染を受けずに、良好な回収率が得られています。

	Na	Mg	Al	K	Ca	Ti	Cr	Fe
2%硝酸	100	99	102	102	104	71	98	97
2％塩酸	98	102	97	104	98	89	92	102

	Ni	Co	Zn	Cu	Ag	Hf	Pd
2%硝酸	97	97	100	99	84	66	99
2％塩酸	97	95	96	99	95	68	93

※上記の結果は、本試験において得られた結果であり、試料状況によっては結果が異なる場合がございます。