ナノインプリント用モールド　カスタム

さまざまな分野への応用が加速しているナノインプリント技術。研究・開発・応用・製品化のさまざまなステップで必要となるナノインプリント用モールドをご提供します。

弊社は半導体微細加工技術の応用として、20年以上前からナノインプリント用モールドをご提供してまいりました。この間多くのお客様からのご指導いただき、1000点以上のモールドをご提供してきた豊富な実績があります。
大学・研究機関・企業、また半導体・光・IT・バイオ・メディカル等の広い分野のお客様からご用命を賜わっております。

ナノインプリント用モールド微細加工技術・製造ノウハウ

■モールド材料

石英・シリコンなど、お客様のナノインプリントに応じた材料をご指定いただけます。

■極微細

最小20nmのパターンからμmオーダまで。高いアスペクト比も可能です。

■パターン

単一パターンの繰返配列から、回路パターン等の複雑なパターンまでご対応します。

■多段差パターン

ホログラムなどに用いるマルチレベル段差パターンもご提供しています。

■三次元形状

マイクロレンズアレイ(MLA)や逆四角錘パターンをはじめ、さまざまな形状を加工します。

ナノインプリント用モールド製作依頼の流れ

まずはご相談ください

カスタムモールドでは事前のお打合せがとても重要です。まずはお客様のご希望やイメージをご連絡ください。細かいご相談やご質問にも丁寧におこたえいたします。