Resina de alto índice de refracción
Ofrecemos resinas de alto índice de refracción curables por UV con excelente transparencia en el rango de luz visible.
Basándonos en la tecnología avanzada que hemos cultivado con adhesivos ópticos, podemos personalizar los productos para satisfacer las necesidades del cliente.
Serie NH700
Este material óptico posee un alto índice de refracción, alta transparencia y resistencia ambiental.
Este tipo que contiene disolvente es adecuado para la formación de películas delgadas.
Especificaciones principales de la serie NH700
| Índice de refracción | 1.8, 1.9 |
|---|---|
| Espesor de la película | De 200 nm a 1 μm (valor típico: 300 nm) |
| Transmitancia | >90% ※ |
| bruma | <0.1% |
| Método de curado | Curado UV |
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Es posible que no podamos atender las solicitudes de la competencia o de clientes individuales.
Ejemplo de personalización
Ejemplos de elementos de personalización
| Rango de índice de refracción | 1.6-1.9 o superior |
|---|---|
| Método de aplicación | Recubrimiento por rotación, inyección de tinta, recubrimiento en barra, dispensación, etc. |
| Espesor de la película | 200 nm o más para películas delgadas, 100 μm o menos para películas gruesas |
| Características del producto | Alto índice de refracción, alta transparencia, baja turbiedad, resistencia a la luz, resistencia al calor, buena nanoimprimibilidad, buena adhesión |
Ejemplo de aplicación
- Guía de ondas ópticas para dispositivos XR
- Lente de resina
- Dispositivos de comunicación fotónica de silicio
- Resina para nanoimpresión
- Adhesivos ópticos
- Agentes de recubrimiento óptico, etc.
¿Qué es la nanoimpresión?
Se trata de una tecnología de procesamiento en la que un molde con un patrón desigual a nanoescala se presiona contra un sustrato recubierto con resina y el patrón desigual se transfiere a la resina mediante calentamiento o fotocurado.
Está atrayendo la atención como una tecnología de producción en masa de próxima generación porque se puede procesar fácilmente y a bajo costo en comparación con la tecnología de procesamiento convencional a nanoescala.
Ejemplos de fabricación de patrones mediante litografía de nanoimpresión
Ancho: 0,5-5 μm, profundidad: 350 nm
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